看股票的app:股票配資王-世界首臺(tái)!非硅二維材料計(jì)算機(jī)問世
代碼 | 名稱 | 當(dāng)前價(jià) | 漲跌幅 | 最高價(jià) | 最低價(jià) | 成交量(萬) |
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據(jù)科技日報(bào),硅在支撐智能手機(jī) 、電腦、電動(dòng)汽車等產(chǎn)品的半導(dǎo)體技術(shù)中一直占據(jù)著王者地位 ,但美國賓夕法尼亞州立大學(xué)領(lǐng)導(dǎo)的一個(gè)研究團(tuán)隊(duì)發(fā)現(xiàn),“硅王 ”的統(tǒng)治地位可能正在受到挑戰(zhàn)。該團(tuán)隊(duì)在最新一期《自然》雜志上發(fā)表了一項(xiàng)突破性成果:他們首次利用二維材料制造出一臺(tái)能夠執(zhí)行簡單操作的計(jì)算機(jī) 。這項(xiàng)研究標(biāo)志著向造出更薄、更快 、更節(jié)能的電子產(chǎn)品邁出了重要一步。
此次開發(fā)的是一種互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)計(jì)算機(jī)。與以往不同的是,這次沒有使用硅 ,取而代之的是兩種二維材料:用于n型晶體管的二硫化鉬和用于p型晶體管的二硒化鎢 。這兩種材料的厚度只有一個(gè)原子,在如此微小尺度下仍能保持優(yōu)異的電子性能,是硅所不具備的優(yōu)勢。
團(tuán)隊(duì)采用金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)技術(shù) ,生長出大面積的二硫化鉬和二硒化鎢薄膜,并分別制造出超過1000個(gè)n型和p型晶體管。通過精確調(diào)整制造工藝和后續(xù)處理步驟,團(tuán)隊(duì)成功調(diào)控了n型和p型晶體管的閾值電壓 ,從而構(gòu)建出功能完整的CMOS邏輯電路 。
該二維CMOS計(jì)算機(jī)稱為“單指令集計(jì)算機(jī)”,可以在低電源電壓下運(yùn)行,功耗極低,并能在高達(dá)25千赫的頻率下執(zhí)行簡單的邏輯運(yùn)算。雖然目前的工作頻率低于傳統(tǒng)硅基CMOS電路 ,但該計(jì)算機(jī)依然能夠完成基本的計(jì)算任務(wù)。團(tuán)隊(duì)還開發(fā)了一個(gè)計(jì)算模型,使用實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行校準(zhǔn)并結(jié)合設(shè)備之間的差異,以預(yù)測二維CMOS計(jì)算機(jī)的性能 ,并通過基準(zhǔn)測試將其與最先進(jìn)的硅技術(shù)進(jìn)行了對(duì)比 。
團(tuán)隊(duì)表示,盡管還有進(jìn)一步優(yōu)化的空間,但這已經(jīng)是二維材料在電子領(lǐng)域應(yīng)用中的一個(gè)重要里程碑。這項(xiàng)研究成果不僅為下一代電子設(shè)備提供了全新的材料選擇 ,也為未來芯片設(shè)計(jì)開辟了新方向。
據(jù)新華社,二維材料是指電子僅能在兩個(gè)維度的納米尺度上自由運(yùn)動(dòng)的材料,如石墨烯、二硫化鉬等 ,它們與傳統(tǒng)三維材料(如金屬、塑料)在結(jié)構(gòu)上有著本質(zhì)的區(qū)別。
圖片來源:視覺截圖
據(jù)央視新聞此前消息,中國科學(xué)院物理研究所科研團(tuán)隊(duì)近期成功研制出厚度僅為頭發(fā)絲直徑的二十萬分之一的單原子層金屬,這是國際上首次實(shí)現(xiàn)大面積二維金屬材料的制備 ,開創(chuàng)了二維金屬研究新領(lǐng)域 。這種材料未來可以為超微型低功耗晶體管 、透明顯示等領(lǐng)域帶來技術(shù)革新。該科研成果于北京時(shí)間3月13日在國際學(xué)術(shù)期刊《自然》發(fā)表。
在我們?nèi)粘I钪?,人們見到的材料都是三維的,也就是具有一定長度、寬度、高度,但如果把一個(gè)維度抹平 ,那就是二維材料 。例如一本書就具有長寬高,而二維材料就像是從這本書上單獨(dú)撕下來的一頁紙,看上去只有長和寬 ,厚度在我們?nèi)庋劭磥韼缀鯙榱?。在科學(xué)界,真實(shí)的二維材料就是厚度為單個(gè)原子或者少數(shù)幾個(gè)原子的材料,一般厚度僅僅是一張A4紙的百萬分之一。
如何把金屬材料也能做得這么薄呢?這在科學(xué)界極具挑戰(zhàn)性 。中國科學(xué)院物理研究所張廣宇研究員帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)發(fā)展了原子級(jí)制造的范德華擠壓技術(shù)。這種技術(shù)采用的壓砧是原子級(jí)平整 、表面無懸掛鍵的材料??蒲袌F(tuán)隊(duì)通過將金屬熔化并利用團(tuán)隊(duì)前期制備的高質(zhì)量單層二硫化鉬范德華壓砧擠壓 ,實(shí)現(xiàn)了原子極限厚度下鉍、錫、鉛等二維金屬的普適制備 。二維金屬的實(shí)現(xiàn)超越了當(dāng)前二維范德華層狀材料體系,補(bǔ)充了二維材料家族的一大塊拼圖。
這項(xiàng)研究成果有望開創(chuàng)二維金屬研究的新領(lǐng)域,為超微型低功耗晶體管、高頻器件 、透明顯示、超靈敏傳感探測、極致高效催化等眾多領(lǐng)域帶來技術(shù)革新。
(文章來源:每日經(jīng)濟(jì)新聞)
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