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2023十大正規(guī)配資平臺(tái):股指配資股市有哪些-光刻機(jī)概念創(chuàng)歷史新高 藍(lán)英裝備6分鐘垂直20%漲停!發(fā)生了什么?

摘要:   今日早盤,A股小幅震蕩上揚(yáng),科創(chuàng)50漲逾1%,再度沖擊1000點(diǎn)大關(guān),中證500、中證1000均創(chuàng)近3個(gè)月來(lái)新高。上漲個(gè)股遠(yuǎn)多于下跌個(gè)股...
代碼 名稱 當(dāng)前價(jià) 漲跌幅 最高價(jià) 最低價(jià) 成交量(萬(wàn))

  今日早盤,A股小幅震蕩上揚(yáng) ,科創(chuàng)50漲逾1% ,再度沖擊1000點(diǎn)大關(guān),中證500、中證1000均創(chuàng)近3個(gè)月來(lái)新高。上漲個(gè)股遠(yuǎn)多于下跌個(gè)股,成交略有萎縮的趨勢(shì) 。

  盤面上 ,國(guó)防軍工 、光刻機(jī) 、游戲、人腦工程等板塊漲幅居前,鎳金屬、銀行 、油氣開(kāi)采、證券等板塊小幅調(diào)整 。

  商業(yè)航天迎爆發(fā)

  國(guó)防軍工概念股早間繼續(xù)走強(qiáng),商業(yè)航天領(lǐng)域表現(xiàn)活躍 ,板塊指數(shù)單邊上揚(yáng),放量漲逾2%,創(chuàng)歷史新高。晨曦航空、博亞精工均快速20%漲停 ,國(guó)瑞科技 、再升科技、能科科技等逾10股漲停或漲超10%。

  地面兵裝板塊指數(shù)再度飆升逾8%,創(chuàng)8年多來(lái)新高,軍貿(mào)概念、軍民融合 、大飛機(jī)、核污染防治等多個(gè)細(xì)分板塊亦再創(chuàng)歷史新高 。長(zhǎng)城軍工9日7漲停 ,恒宇信通連續(xù)2日20%漲停,利君股份、中兵紅箭等也批量封板。

  近年來(lái),國(guó)際商用衛(wèi)星發(fā)射高速增長(zhǎng) ,據(jù)世界經(jīng)濟(jì)論壇報(bào)告預(yù)測(cè) ,到2035年,全球太空經(jīng)濟(jì)的規(guī)模將達(dá)到1.8萬(wàn)億美元,年均增長(zhǎng)率達(dá)到9% ,遠(yuǎn)超全球GDP的增長(zhǎng)速度。到2050年,全球新太空經(jīng)濟(jì)收入將達(dá)到3萬(wàn)億美元 。

  我國(guó)商用衛(wèi)星市場(chǎng)也急速擴(kuò)張,賽迪智庫(kù)預(yù)測(cè) ,2025年,我國(guó)商業(yè)航天產(chǎn)業(yè)將迎來(lái)轉(zhuǎn)型升級(jí)期,市場(chǎng)規(guī)模有望突破2.5萬(wàn)億元 ,國(guó)際合作也將持續(xù)拓展。

  泰伯智庫(kù)發(fā)布的《2025年火箭發(fā)射服務(wù)市場(chǎng)全景深度研究報(bào)告》顯示,2025年—2030年間,我國(guó)衛(wèi)星發(fā)射需求預(yù)計(jì)將超過(guò)7000顆。

  中航證券指出 ,2025年,伴隨多款商業(yè)火箭新型號(hào)首飛,巨型衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)星座建設(shè)有望提速 ,相關(guān)商業(yè)航天板塊的上市公司的關(guān)注度有望提升 ,特別是衛(wèi)星制造板塊有望迎來(lái)基本面改善疊加估值提升的“戴維斯雙擊” 。

  光刻機(jī)概念創(chuàng)歷史新高

  光刻機(jī)概念股早間放量高開(kāi)高走,板塊指數(shù)盤中大漲逾3%,創(chuàng)歷史新高 ,半日成交超前一交易日全天成交。藍(lán)英裝備開(kāi)盤僅約6分鐘就垂直20%漲停,凱美特氣 、中瓷電子、常青科技等也在5分鐘內(nèi)快速漲停。

  消息面,近日 ,英特爾一位高管稱“光刻將不再那么重要 ”,引發(fā)業(yè)界巨大爭(zhēng)議 。去年緊俏的High—NA EUV光刻機(jī)面臨滯銷局面。

  此前臺(tái)積電業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強(qiáng)表示,雖然對(duì)High—NA EUV能力印象深刻 ,但設(shè)備價(jià)格超過(guò)3.5億歐元。目前的標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī),仍可以支持臺(tái)積電尖端制程的生產(chǎn)到2026年,臺(tái)積電尖端制程A16也將會(huì)繼續(xù)采用標(biāo)準(zhǔn)型EUV光刻機(jī)來(lái)進(jìn)行生產(chǎn) 。

  三星及其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手SK海力士均已決定推遲在DRAM生產(chǎn)中引入High—NA EUV技術(shù)的時(shí)間 。原因是工具設(shè)備的成本過(guò)高 ,另外DRAM架構(gòu)即將發(fā)生變化,從而讓存儲(chǔ)器制造商在High-NA EUV技術(shù)上采取更為謹(jǐn)慎的態(tài)度。

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